Промышленное производство
Промышленный Интернет вещей | Промышленные материалы | Техническое обслуживание и ремонт оборудования | Промышленное программирование |
home  MfgRobots >> Промышленное производство >  >> Industrial materials >> Наноматериалы

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования

Аннотация

В процессе наноразрезания монокристаллический арсенид галлия сталкивается с различными деформациями и повреждениями поверхности/подповерхности, которые существенно влияют на производительность изделия. В данной статье проводится молекулярно-динамическое моделирование наноразрезания арсенида галлия для исследования механизма деформации поверхности и подповерхности. Дислокации обнаружены в механически обработанной подповерхности. Фазовые превращения и аморфизация изучаются посредством координационных чисел. Результаты раскрывают существование промежуточной фазы с координационным числом пять в процессе резания. Модели с разными скоростями резания устанавливаются для исследования влияния на дислокации. Эффект кристаллической анизотропии на тип и плотность дислокаций изучается через модели с разными ориентациями резания. Кроме того, анализируется подповерхностное напряжение.

Введение

Арсенид галлия (GaAs) является типичным III–V соединением и также одним из самых важных полупроводниковых материалов. Благодаря своим отличным свойствам, таким как прямая запрещенная зона, высокая подвижность электронов и высокое сопротивление, монокристаллический арсенид галлия находит широкое применение в различных областях, таких как инфракрасные оптические приборы и микроволновые устройства. С непрерывным развитием его производства все более строгие требования к шероховатости поверхности, точности формы поверхности и подповерхностным повреждениям становятся востребованными. Наноразрезание полезно для улучшения характеристик оптических элементов из арсенида галлия и расширения области их применения. Процесс наноразрезания кристалла арсенида галлия сталкивается со многими трудностями, такими как хрупкое трещинобразование, анизотропия и другие подповерхностные повреждения. Поэтому изучение механизма наноразрезания арсенида галлия имеет большое значение для решения проблем обработки, улучшения качества поверхности арсенида галлия и развития смежных нанометрических технологий обработки.

Многие исследования выполняли наноэксперименты на арсениде галлия. Фан и соавторы [1] сравнили наноиндентацию и наноколение арсенида галлия и кремния. Тейлор и соавторы [2] исследовали ультра-низконагруженные наноиндентации в арсениде галлия (100) с кубическим угловым наконечником. Брэдби и соавторы [3] обнаружили pop-in события арсенида галлия при шаровой индентации. Фан и соавторы [4, 5] изучали обработочные свойства мягких хрупких полупроводников и впервые получили зеркальную поверхность арсенида галлия алмазным точением. Хотя многие исследования об индентации и физических свойствах арсенида галлия были опубликованы, мало известно о его процессе наноразрезания и механизме формирования повреждений. Это главным образом связано с большой трудностью проведения экспериментов и последующих caracterizaций. С одной стороны, практически невозможно инспектировать процесс наноразрезания и измерять нанометрические данные с использованием онлайн-измерений из-за нанометрического масштаба и высокой скорости резания. С другой стороны, проведение серии нанометрических экспериментов по обработке и измерению стоит дорого.

Молекулярно-динамическое (МД) моделирование является одним из самых эффективных методов для исследования механизма нанометрической обработки. Шимада и соавторы [6, 7] доказали, что МД моделирование — эффективный способ описания процесса нанометрической обработки. Командури и соавторы [8] обнаружили феномен структурного перехода кремния в процессе наноразрезания с МД моделированием. Пэй и соавторы [9] изучали формирование дислокаций меди с крупномасштабными МД моделями нанометрической обработки. Лай и соавторы [10] изучали эффекты критического угла заточки и деформации материала германия в нанометрическом резании и дополнительно исследовали частично перекрывающийся процесс наноразрезания [11]. Кроме того, мультимасштабный подход моделирования сильно развился в области ультраточной обработки [12,13,14]. Мультимасштабное моделирование комбинирует методы моделирования в разных масштабах, такие как МД модель в наномасштабе и МКЭ модель в нано/микромасштабе [15], для изучения процесса обработки более всесторонне и реалистично. В данной статье фокусируются на механизме подповерхностной деформации процесса наноразрезания, поэтому МД моделирование выбрано как исследовательский метод.

Что касается изучаемых материалов, большинство МД исследований в нанометрической обработке фокусируются на элементных полупроводниках, таких как кремний и германий, или металлах, таких как медь и алюминий. Меньше исследований сообщалось о численном анализе наноразрезания арсенида галлия. Фан и соавторы [16] исследовали дуктиловый отклик арсенида галлия МД моделированием и экспериментами точения. И и соавторы [17] изучали фазовые превращения и анизотропию арсенида галлия в наноколении через МД моделирование. В данной статье серия трехмерных МД симуляций проводится для исследования дуктилой деформации в процессе наноразрезания монокристаллического арсенида галлия. Эффект параметров резания, таких как скорость резания и ориентация резания, также систематически изучаются.

Методы

МД модели устанавливаются для изучения деформационного поведения хрупкого кристалла арсенида галлия в процессе наноразрезания. Трехмерная МД модель показана на Рис. 1. Рабочее тело построено как монокристаллический арсенид галлия, кристаллизующийся в цинкблендовой решетке с атомами Ga и As, занимающими две ФЦК подрешетки. Размер рабочего тела составляет 85 нм × 30 нм × 35 нм. Модель рабочего тела состоит из трех слоев: граничного слоя, термостатического слоя и ньютоновского слоя. Рабочее тело фиксируется граничным слоем, в то время как термостатический слой устанавливается при постоянной температуре 293 К для имитации рассеяния тепла в реальном процессе обработки. Ньютоновский слой — это зона резания, которая раскроет механизм процесса наноразрезания. Движения атомов в ньютоновском слое подчиняются классическому второму закону Ньютона. Для имитации алмазного режущего инструмента в реальном процессе резания построена полусферическая модель алмазного инструмента с радиусом режущего края 10 нм, а глубина резания установлена на 4 нм. Алмазный инструмент устанавливается на определенных скоростях для резания в рабочее тело. С учетом ограничения вычислительных ресурсов, модель уменьшена и упрощена, но она все еще убедительно объясняет дуктиловое удаление и формирование повреждений в нанометрическом масштабе. Алмазный инструмент упрощен как полусфера для изучения дуктиловых поведений удаления в горизонтальном направлении, как боковое течение и наваждение по обеим сторонам инструмента, что является важной характеристикой трехмерного моделирования. Для изучения влияния параметров процесса строятся модели с разными скоростями резания и ориентациями. Таблица 1 перечисляет параметры моделей.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
МД симуляционная модель

Потенциал является основой для расчета силы и энергии между атомами, и он также является одной из самых важных настроек в МД моделировании. В предыдущем исследовании система потенциала, состоящая из трех видов потенциала, была определена для моделирования арсенида галлия и модели алмазного инструмента [18]. В этой системе потенциал Терсофф-Бреннера используется для описания взаимодействия между Ga и As, показывая хороший эффект моделирования [19]. Экспоненциальный отталкивающий потенциал устанавливается для описания взаимодействия между алмазным инструментом и рабочим телом арсенида галлия через квантово-химический метод, который имеет форму упрощенного потенциала Борна-Маера [18]. Потенциал Терсофф-ZBL используется в алмазном инструменте. Система потенциала суммирована на Рис. 2.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Система потенциала в модели

LAMMPS используется для проведения МД моделирования, в то время как визуализация и анализ осуществляются через OVITO, включая анализ дислокаций (DXA), расчет напряжений и координационный анализ. Релаксация рабочего тела устанавливается как NPT ансамбль для минимизации энергии системы и стабилизации свободной поверхности, в то время как процесс наноразрезания устанавливается как NVE ансамбль. Временной шаг для интеграции в моделировании составляет 1,0 фс.

Результаты и обсуждение

Общее описание

Как показано на Рис. 3, рабочее тело из арсенида галлия обрабатывается на расстоянии резания 60 нм со скоростью резания 400 м/с вдоль направления [\(\overline{1}\)00] на плоскости (010). Рабочее тело окрашено по смещению атома в направлении y. Атомы перед инструментом наблюдаются текущими вверх, становясь стружкой экструзией. Большое количество атомов течет вниз и формирует механически обработанную поверхность. По обеим сторонам механически обработанной желобки атомы наваждаются с высотой 2 нм из-за экструзии и плуга инструмента. Результат раскрывает, что деформация и удаление хрупкого кристалла арсенида галлия представляет дуктиловое поведение, когда обработка находится в нанометрическом масштабе. Немного кластеров арсенида, выпадающих на механически обработанную поверхность, очевидны в процессе моделирования. Это исследование раскрывает присутствие выпадения кластеров арсенида после отжига [20]. Потенциал Терсофф-Бреннер способен моделировать выпадение кластеров арсенида [19]. В процессе резания поверхностный материал нагревается теплом резания и затем отжигается, формируя кластеры арсенида. Однако это выпадение не является основной проблемой в процессе наноразрезания. Следовательно, эти атомы будут скрыты в последующем анализе.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Результат наноразрезания симуляции, окрашенный смещением атома в направлении y

Сравните кривую режущей силы в процессе обработки на Рис. 4. Изначально касательная сила и нормальная сила растут с врезанием инструмента в материал. Боковая сила флуктуирует вокруг 0, потому что силы компенсируют друг друга в направлении z. Когда силы стабилизируются, нормальная сила и касательная сила флуктуируют вокруг 1700 нН и 700 нН соответственно. Обнаружено, что сила в направлении y доминирует в процессе резания из-за большого эффективного отрицательного угла заточки алмазного инструмента, представленного в модели. Отрицательный угол заточки приносит большое компрессивное напряжение, что вызывает высокую нормальную силу в процессе резания.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Режущая сила в процессе наноразрезания

Дислокации и стэкинг-фолты

Формирование подповерхностных повреждений является важной частью изучения механизма наноразрезания. Необходимо выяснить механизм формирования повреждений арсенида галлия при обработке для дальнейшей оптимизации параметров обработки. Кристаллы имеют анизотропию на атомной структуре, и это одна из самых серьезных проблем в процессе обработки, которая влияет на производительность процесса с разными ориентациями.

Распределение дислокаций в механически обработанной подповерхности показано на Рис. 5, а движение инструмента происходит вдоль ориентации резания (010) [\(\overline{1}\)00]. Дислокации наблюдаются вокруг механически обработанной желобки, формируя слой дислокаций толщиной около 8 нм. В механически обработанной подповерхности присутствуют два основных типа дислокаций. Дислокации 1/2[110] בעיקר скользят по двум боковым стенкам механически обработанной желобки, в то время как дислокации 1/6[112] распределяются под дном желобки. Дислокации 1/2[110] и 1/6[112] оказались идеальными дислокациями (синие линии) и частичными дислокациями (зеленые линии) соответственно. Формирование дислокаций означает транзитивные движения локальных атомов, что подразумевает, что деформация и удаление находятся в дуктилом состоянии. Доказано, что хрупкий материал также показывает дуктиловое состояние при достаточно малом масштабе.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Перспективные виды распределения дислокаций в механически обработанной подповерхности, в a y-направлении и b x-направлении

Фон Мизеса напряжение, которое рассчитывается с учетом компонентов сдвигающих напряжений, обычно используется для определения формирования дислокаций. Рис. 6 — это поперечный вид распределения дислокаций и распределения напряжения фон Мизеса. Область высокого напряжения сконцентрирована под инструментом из-за экструзии. Когда напряжение, оказываемое инструментом, превышает предел текучести материала рабочего тела, материал будет скользить вдоль плоскости скольжения, и относительное движение скользящего материала приведет к дислокациям. Следовательно, дислокации нуклеируют и расширяются в монокристалл из-за высокого напряжения в зоне обработки. Локальная энергия будет высвобождена атомными движениями.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
a Распределение дислокаций и b распределение напряжения фон Мизеса в подповерхности наноразрезающей модели

Дислокации в хрупких и дуктиловых материалах сильно отличаются. Арсенид галлия — типичный хрупкий кристалл, и дислокации сконцентрированы рядом с механически обработанной поверхностью. Однако дислокации в дуктиловых материалах, таких как медь, будут расширяться и скользить глубоко в рабочее тело и формировать кластер дислокаций высокой плотности в процессе резания [21], как показано на Рис. 7a. Дислокации результатом дуктилой деформации материалов. Расширение кластеров дислокаций для дуктиловых материалов приводит к широкому диапазону дуктиловых деформаций и диффузному напряжению. Однако локализация дислокаций в хрупких материалах, таких как арсенид галлия, указывает на то, что дуктиловая деформация происходит только близко к поверхности без полного освобождения напряжения. Когда напряжение сконцентрировано до порогового значения, могут появиться другие виды повреждений, такие как фазовые превращения или трещины. В нашем предыдущем исследовании [18] изучалось формирование трещин арсенида галлия, и обнаружилось, что режим удаления изменится от дуктилового режима с формированием дислокаций к хрупкому режиму с трещинами при увеличении скорости резания. Формирование дислокаций высвободит напряжение, которое может вызвать инициацию трещин, и режим деформации будет стремиться к дуктилому вместо хрупкого в этом случае.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Дислокации в наноразрезании разных монокристаллических материалов: a медь [21] и b арсенид галлия

Рис. 8 раскрывает стэкинг-фолты, найденные в механически обработанной подповерхности. Атомы в рабочем теле окрашены на основе координационного числа. Для удобства инспекции четырехкоординированные атомы с исходной цинкблендовой структурой скрыты. Можно наблюдать, что существуют трехкоординированные атомы, расположенные периодически в механически обработанной подповерхности. В сочетании с частичными дислокациями, найденными под дном желобки, частичные дислокации, которые преимущественно испускаются из границ зерен или свободных поверхностей, могут вызывать формирование стэкинг-фолтов или твиннинга [22, 23]. Стэкинг-фолты в модели не являются полностью дислоцированными атомными плоскостями, а несколькими небольшими областями на границе монокристалла и аморфного слоя, поэтому частичные дислокации существуют на границах стэкинг-фолтов. Также можно заключить, что в реальной механически обработанной подповерхности могут быть стэкинг-фолты.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Стэкинг-фолты в механически обработанной подповерхности

Фазовые превращения и аморфизация

Решетчатая структура материала может измениться из-за высокого напряжения во время наноразрезания. Изучая процесс фазового превращения, можно достичь лучшего понимания резания арсенида галлия, что полезно для оптимизации параметров процесса или проектирования предварительного эксперимента перед наноразрезанием.

Монокристаллический арсенид галлия имеет цинкблендовую структуру при нормальном давлении и температуре. Однако структура меняется в шестикоординированный GaAs-II, когда компрессивное напряжение достигает 17 ГПа [24]. Фазовое превращение заканчивается вирцуитовой структурой, когда напряжение увеличивается выше 60 ГПа [25].

Рис. 9a представляет структурное изменение в модели со скоростью резания 400 м/с при ориентации (010)[\(\overline{1}\)00]. Слой механически обработанной области наблюдается с аморфной структурой толщиной около 6 нм без характерной структуры кристалла.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Распределение a атомов с высоким координационным числом и пятикоординированной структуры и b распределение гидростатического напряжения

Очевидно, что некоторые атомы под позицией обработки превращаются в пятикоординированную структуру. Аналогично bct-5 структуре кремниевого кристалла, формирующейся под компрессивным напряжением, эта пятикоординированная структура рассматривается как промежуточная в формировании шестикоординированного GaAs-II. Гидростатическое напряжение увеличивается и вызывает искажение решетки при резании инструментом. Однако, как показано в распределении гидростатического напряжения на Рис. 9b, максимальное гидростатическое напряжение составляет 17 ГПа, что именно достигает критического значения перехода от GaAs-I к GaAs-II. Подповерхностная область, где гидростатическое напряжение выше 17 ГПа, очень мала, и большая часть площади рабочего тела имеет гидростатическое напряжение ниже порога перехода. В результате трудно найти большие участки атомов с шестикоординированной структурой, и пятикоординированная структура является промежуточной фазой от GaAs-I к GaAs-II.

Рис. 10 изображает кривые радиальной функции распределения выбранной области в процессе резания, которая является областью под алмазным инструментом. Кривые радиальной функции распределения до, во время и после обработки рассчитываются. Рабочее тело имеет упорядоченную цинкблендовую структуру в начале, кривая которой состоит из регулярных пиков. Когда алмазный инструмент достигает выбранной области, радиальная функция распределения показывает дезорганизованное состояние как в коротком, так и в длинном диапазоне. Это подразумевает присутствие сильной аморфизации с дезорганизованным расположением атомов в области. Однако кривая механически обработанной подповерхности подразумевает, что структура может восстановиться и стать упорядоченной в коротком диапазоне и дезорганизованной в длинном диапазоне. С высвобождением напряжения материал изменит структуру на состояние с минимальной энергией. Атомы с промежуточной фазой могут измениться на аморфную или другую стабильную фазу. Таким образом, кривая показывает стабильное механически обработанное состояние с аморфным арсенидом галлия. Можно обнаружить, что есть боковой пик на 3,3 Å в процессе обработки, и пик исчезает, когда инструмент уходит. Этот феномен раскрывает формирование и исчезновение промежуточной фазы, которую можно рассматривать как упругую деформацию в процессе резания. Без силы инструмента часть атомов восстановится в цинкблендовую структуру, а другие изменятся в другую стабильную фазу или аморфное состояние, что представляет постоянную дуктиловою деформацию.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Выбранная область радиальной функции распределения: a выбранные области; b соответствующие кривые радиальной функции распределения

Влияние скорости резания и ориентации на подповерхностную деформацию

Формирование поверхностных/подповерхностных повреждений влияет на множество факторов, и разные параметры резания будут влиять на формирование дислокаций.

Распределения дислокаций с разными скоростями резания сравниваются на Рис. 11a–c. Плотность дислокаций постепенно снижается по мере увеличения скорости резания. Механически обработанная подповерхность богато снабжена дислокациями, особенно когда скорость резания снижается до 200 м/с. Когда процесс резания находится под высокой скоростью деформации, недостаточно времени для нуклеации и распространения дислокаций. В результате меньше дислокаций, и дуктиловая деформация, индуцируемая дислокациями, также менее доминирует. Материал будет деформироваться и дезорганизовываться быстро, и время восстановления также короткое, и аморфные атомы с нерегулярной структурой будут легче формироваться. Следовательно, более высокая скорость резания — это способ сдерживания формирования дислокаций. Рис. 11d–f — поперечные виды распределения напряжения фон Мизеса в трех соответствующих моделях. При более высокой скорости резания напряжение материала рядом с инструментом относительно выше из-за большой энергии резания. Сравнивая три модели, модель 800 м/с имеет более высокую концентрацию напряжения перед инструментом, и механически обработанная подповерхность представляет более непрерывную область напряжения с более высокими значениями. Напротив, напряжение высвобождается из-за формирования дислокаций в моделях низкой скорости. Дуктиловая деформация, индуцируемая дислокациями, высвободит локальную деформационную энергию и напряжение, вызванное изгибом и упругой деформацией решетки. Следовательно, в рабочем теле с более высокой скоростью резания состояние напряжения может быть серьезным из-за отсутствия дислокаций, что делает легче формирование трещин в процессе резания.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Перспективные виды распределения дислокаций и напряжения фон Мизеса в моделях с разными скоростями резания a, d 200 м/с, b, e 400 м/с, и c, f 800 м/с

Анизотропия — серьезная проблема в процессе наноразрезания кристалла [26, 27], включая монокристаллический арсенид галлия. Из-за своей монокристаллической структуры кристалл арсенида галлия показывает отличные свойства в разных кристаллических ориентациях. Три модели с разными плоскостями и ориентациями резания построены для изучения анизотропии. Ориентации резания: (010)[\(\overline{1}\)00], (\(\overline{1}\)10)[\(\overline{1}\)\(\overline{1}\)0] и \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\). Рис. 12a–f отражают большие различия, существующие среди распределений дислокаций. Как указано выше, в модели (010)[\(\overline{1}\)00] существуют два типа дислокаций. Когда направление резания вдоль \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\), большинство дислокаций находятся на дне механически обработанной желобки, в то время как некоторые кластеризованные дислокации расширяются к поверхности перед инструментом. Мало дислокаций найдено на обоих боковых стенках на Рис. 12b. При ориентации резания \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\), древесные дислокации, расширяющиеся от середины к обеим сторонам, наблюдаются, покрывающие механически обработанную подповерхность, как раскрыто на Рис. 12c. Однако, в отличие от первой модели, в моделях \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\) и \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\) мало частичных дислокаций, и большинство дислокаций — идеальные дислокации вдоль ориентации [110]. Аналогично, стэкинг-фолты не найдены в механически обработанной области моделей \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\) и \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\), соответствующее отсутствию частичных дислокаций. Это также доказывает эффект анизотропии в материале.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Перспективные виды распределения дислокаций в моделях с ориентациями резания вдоль a, d \((010)\,[\overline{1}00]\), b, e \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\), и c, f \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\)

Рис. 13a–f сравнивают распределение дислокаций и распределение напряжения фон Мизеса трех моделей с разными ориентациями резания. Кристаллическая ориентация имеет очевидный эффект на распространение напряжения. В моделях (010)[\(\overline{1}\)00] и \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\) напряжение сконцентрировано перед алмазным инструментом, но направления расширения разные. Однако область сконцентрированного напряжения модели \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\) шире, и регион высокого напряжения перед инструментом расширяется к поверхности. Из-за разницы в кристаллических ориентациях компоненты напряжения вдоль направления скольжения будут разными, что приводит к разному появлению дислокаций. Когда угол направления напряжения и плоскости скольжения мал, скольжение более вероятно появится и материал будет деформироваться в дуктилом режиме. Напротив, трещина и хрупкое разрушение склонны к инициации, когда отношение нормального напряжения, перпендикулярного к плоскости расщепления, к сдвигающему напряжению вдоль плоскости скольжения увеличивается.

Механизм подповерхностной деформации при наноразрезании арсенида галлия: инсайты из молекулярно-динамического моделирования
Распределение напряжения фон Мизеса и дислокаций в моделях с ориентациями резания вдоль a, d \((010)\,[\overline{1}00]\), b, e \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\), и c, f \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\)

Сравнивая распределения напряжений и дислокаций, модели с более высокой плотностью дислокаций могут иметь более низкое напряжение в механически обработанной подповерхности. Рис. 13e показывает более толстый аморфный повреждающий слой в подповерхности модели \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\), который соответствует плотным регионам дислокаций в других моделях. Этот феномен показывает, что анизотропия может влиять на типы повреждений. В модели \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\) сконцентрированное напряжение трудно высвободить из-за меньшего формирования дислокаций. В результате расположение атомов нарушается под серьезным состоянием напряжения. Диапазон напряжения больше в механически обработанной подповерхности и остаточное напряжение выше. Напротив, модель \((\overline{2}11)\,[\overline{1}\overline{1}\overline{1}]\) имеет более тонкий напряженный слой в механически обработанной подповерхности из-за более высокой плотности дислокаций. Формирование дислокаций высвобождает часть напряжения в процессе резания. В предыдущем исследовании [18], когда дуктиловый режим повреждения переходит от дислокаций к аморфизации, механически обработанная подповерхность демонстрирует серьезное состояние напряжения и аморфное повреждение. Подповерхностные трещины легче формируются на границе аморфного и монокристалла. Можно сделать вывод, что трещины более вероятно возникнут, когда ориентация резания вдоль направления \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\). Формирование дислокаций может снизить формирование хрупких повреждений. Помимо механизма расщепления, это также причина, почему формирование трещин влияет анизотропия.

В процессе резания материал рядом с режущим инструментом получает высокое напряжение и серьезное сжатие, что вызывает структурные изменения материала, такие как фазовые превращения и аморфизация. Под аморфным слоем скольжение произойдет в более крупной области и дислокации сформируются в монокристалле из-за широко распространенных эффектов напряжения. Это основные дуктиловые деформации в наноразрезании арсенида галлия. Разные условия резания будут влиять на локальное состояние напряжения и легкость формирования дислокаций. Когда дислокации трудно генерируются из-за высокой скорости обработки или анизотропии, режим дуктилой деформации будет стремиться к аморфному доминированию из-за аморфизации, вызванной невысвобожденным напряжением. Трещина также легко сформируется в этой ситуации. Напротив, дислокации будут основным компонентом дуктилой деформации, если условия подходят для скольжения материала.

Заключение

МД моделирование используется для изучения механизма формирования повреждений в процессе наноразрезания кристалла арсенида галлия. Атомные движения и режущая сила процесса также анализируются. Дислокации, стэкинг-фолты и фазовые превращения изучаются в основном как поверхностные/подповерхностные повреждения. Выводы можно резюмировать следующим образом:

  1. В наноразрезании арсенида галлия дислокации и структурные превращения найдены как основные механизмы деформации в механически обработанной подповерхности.

  2. Дислокации и стэкинг-фолты наблюдаются в механически обработанной подповерхностной желобке, и формирование стэкинг-фолтов и частичных дислокаций согласовано.

  3. Промежуточная фаза с пятикоординированностью найдена перед инструментом, потому что гидростатическое напряжение близко к, но не выше порога перехода (17 ГПа). Аморфный слой формируется в механически обработанной подповерхности.

  4. С увеличением скорости резания плотность дислокаций снижается из-за высокой скорости деформации. Анизотропия оказывает большое влияние на тип и плотность дислокаций. Частичные дислокации легче формируются в модели (010) [\(\overline{1}\)00]. Более того, модель \((\overline{1}10)\,[\overline{1}\overline{1}0]\) имеет более низкую плотность дислокаций и более серьезную аморфизацию.

Доступность данных и материалов

Наборы данных, сгенерированные или проанализированные в ходе текущего исследования, не публично доступны, так как данные также составляют часть текущего исследования, но доступны у соответствующего автора по разумному запросу.

Аббревиатуры

МД:
Молекулярная динамика
GaAs:
Арсенид галлия
FE:
Конечные элементы
FCC:
Гранецентрированный кубический
Tersoff-ZBL:
Терсофф-Циглер-Бирсак-Литтмарк
LAMMPS:
Большая масштабная атомная/молекулярная массово-параллельная симулятор
OVITO:
Инструмент открытой визуализации
NPT:
Число-давление-температура, изотермально-изобарический ансамбль
NVE:
Число-объем-энергия, микроканонический ансамбль

Наноматериалы

  1. Освоение операторов using в C#: импорт, псевдонимы и статические директивы
  2. IBM проложила новый путь с 7-нм FinFET технологией, используя EUV-литографию
  3. Использование скрученных 2D материалов для революции в электронике
  4. Наноусиленный бетон: высокая прочность, быстрый застывание и меньшее воздействие на среду
  5. Поверхностные свойства управляют нефтетранспортом в наноканалах: инсайты из молекулярной динамики
  6. Молекулярно-динамическое исследование ультраточного алмазного резания церия
  7. Влияние угла удара на нанометрическое абразивное резание монокристаллической меди: молекулярно-динамическо…
  8. Проектирование n-типа тонких пленок GeBi методом молекулярно-лучевой эпитаксии: кристаллический контроль и ИК/…
  9. Наномасштабное трение графена на золоте: инсайты из молекулярно-динамических симуляций
  10. Как индиум-галлий-арсенид (InGaAs) улучшает SWIR-сенсинг в коротковолновом ИК