Hexion завершает работу в Шанхайском центре разработки приложений

Источник | Гексион

Hexion Inc. (Колумбус, Огайо, США) объявила о завершении строительства своего нового Центра разработки приложений (ADC) в Шанхае в рамках своих глобальных усилий по дальнейшему укреплению своих возможностей в области исследований и разработок и технических услуг. Новый ADC площадью 4800 квадратных метров будет поддерживать разработку новых продуктов и сотрудничество с клиентами для ускорения роста производства покрытий на водной основе и композитных материалов.

«Новый ADC - еще один пример нашей постоянной приверженности стратегическим инвестициям в наши исследования и разработки, чтобы расширить возможности для инноваций и стимулировать рост», - говорит Крейг А. Роджерсон, председатель, президент и генеральный директор. «Поскольку коммерческие лидеры и руководители НИОКР работают в более тесной близости, мы будем использовать их разнообразные навыки в технологической среде мирового класса ... инвестиции также демонстрируют нашу неизменную приверженность внедрению принципов устойчивого развития в наши инициативы в области НИОКР и разработки продуктов».

По словам Роджерсона, Hexion ожидает, что новый ADC укрепит лидирующие позиции компании на рынке ветроэнергетики в Китае за счет разработки решений следующего поколения на основе эпоксидных систем EPIKOTE и EPIKURE. ADC также будет поддерживать дальнейшие инновации на основе систем смол Hexion EPIKOTE и EPONOL для автомобильной промышленности.

Другие экологически ориентированные решения, которые, как ожидается, будут развиваться и дальше при поддержке ADC, включают:

• Эпоксидная система NextGen на водной основе, обеспечивающая покрытие, сравнимое с системами на основе растворителей, при этом обеспечивая более низкое содержание летучих органических соединений.
• Глицидиловый эфир кардуры для производства акриловых полиоловых смол на водной основе и со сверхвысоким сухим остатком.
• Виниловые эфиры VeoVa - ряд специальных мономеров, позволяющих использовать доступные смолы для создания высокоэффективных защитных покрытий без изоцианата 1K.